# CNBC: новая машина ASML за $400 млн определит будущее чипов для ИИ

Источник: https://www.youtube.com/watch?v=1JkzrR-hznE
Канал: CNBC
Опубликовано: 22.05.2025

---

Журналисты телеканала CNBC получили эксклюзивный доступ в сверхсекретную чистую комнату штаб-квартиры компании ASML в Велдховене (Нидерланды), где собирается уникальная литографическая машина High NA EUV стоимостью 400 миллионов долларов. Этот гигантский аппарат размером с двухэтажный автобус представляет собой самый сложный промышленный инструмент в истории человечества, определяющий развитие искусственного интеллекта и передовых процессоров. Без этой технологии лидеры рынка, включая Apple, Nvidia, TSMC, Samsung и Intel, не смогут производить чипы следующего поколения.

## 🌐 Монополия на пределе физики: что такое High NA EUV
[[JUMP:0:01]]

За строго охраняемой дверью лаборатории ASML скрывается технологический гигант стоимостью 400 миллионов долларов [0:01]. Машина превосходит по габаритам знаменитые двухэтажные автобусы и защищена строжайшими коммерческими патентами [0:01]. Сложность этого оборудования столь высока, что до визита съемочной группы CNBC даже собственной команде ASML запрещалось снимать установку на видео [0:15]. 

В штаб-квартире ASML в Нидерландах сосредоточено 100% мирового производства машин экстремальной ультрафиолетовой литографии (EUV), а теперь и систем нового поколения — High NA EUV [0:28]. Высокая числовая апертура (High Numerical Aperture) представляет собой вершину современных технологий создания наноструктур на кремниевых пластинах [0:42]. Ни один передовой процессор для Nvidia, Apple, TSMC, Samsung или Intel не может быть создан без этого оборудования, а ASML полностью контролирует данный сектор рынка [0:54].

Первая система High NA была доставлена и смонтирована на исследовательском заводе Intel в Орегоне в прошлом году [1:07]. На сегодняшний день отгружено всего пять таких машин по всему миру [1:07]. Из-за колоссальных габаритов устройство невозможно транспортировать целиком, поэтому его разбирают на модули и доставляют клиентам по частям [1:15]. 

По мнению аналитиков полупроводникового сектора, развитие технологий искусственного интеллекта напрямую зависит от этих поставок [1:33]. Без EUV-литографии сверхвысокого разрешения производство сложнейших вычислительных систем для ИИ просто остановится [1:33].

## 🔬 История безумной ставки: от сарая до мирового господства
[[JUMP:3:05]]

История ASML началась со скромного стартапа. Ветеран компании Йос Беноп вспоминает, что пришел в голландский электронный гигант Philips в 1984 году, а всего через две недели ASML была выделена в самостоятельную дочернюю структуру [3:05]. Первые исследования проводились в протекающем сарае неподалеку от Эйндховена [3:05]. 

Путь к успеху включал ключевые этапы:

*   В 1995 году ASML провела процедуру IPO, окончательно отделившись от Philips [3:17].
*   В 1997 году Йос Беноп помог инициировать первые шаги компании в разработке технологии экстремального ультрафиолета (EUV) [3:17].
*   Уже через три-четыре года руководство приняло смелое решение поставить все ресурсы компании на одну карту — технологию EUV [3:30]. 

С высоты сегодняшнего дня Беноп констатирует, что ставка оказалась абсолютно верной, и сейчас компания ежегодно регистрирует сотни патентов в этой области [3:30].

Генеральный директор ASML Кристоф Фуке, работающий в компании более 17 лет, подчеркивает, что разработка EUV заняла более двух десятилетий напряженного труда [3:43]. По словам Фуке, это были крайне рискованные инвестиции без каких-либо твердых гарантий, что технология физически заработает [3:56]. 

Пока конкуренты в лице японских корпораций Nikon и Canon продолжают соперничать с ASML на рынке более старых DUV-систем (глубокого ультрафиолета), в сегменте EUV голландский гигант остался в полном одиночестве [4:34]. Огромный объем необходимых инвестиций и жесткие требования к долгосрочным обязательствам отпугнули всех потенциальных конкурентов на ранних стадиях [4:46].

## ⚡️ Как приручить плазму горячее Солнца: физика процесса
[[JUMP:4:09]]

Современные микросхемы формируются на тончайших кремниевых пластинах и состоят из множества слоев (вплоть до 100), на которых размещаются миллиарды транзисторов [4:09]. Печать этих слоев осуществляется методом фотолитографии: направленные лучи света проходят сквозь маску с рисунком схемы и проецируются на кремний, покрытый светочувствительными химикатами (фоторезистом) [4:21].

Поскольку транзисторы уменьшились до размеров, которые в 10 000 раз тоньше человеческого волоса, инженерам ASML пришлось создать собственный источник ультракороткого излучения [4:59]. Длина волны нового излучения составляет всего 13,5 нанометра, что сопоставимо с шириной пяти спиралей ДНК [5:12]. Свет с такой длиной волны поглощается практически любым веществом, включая воздух, поэтому весь процесс внутри литографа должен проходить в глубоком вакууме [5:24].

Генерация экстремального ультрафиолета представляет собой сложнейший физический процесс:

*   Внутри вакуумной камеры с частотой 50 000 капель в секунду выстреливается струя расплавленного олова [5:24].
*   Промышленный CO2-лазер, который в автомобильной отрасли используют для резки стали, производит выстрелы по летящим оловянным каплям [5:37].
*   В результате микровзрывов олово испаряется, превращаясь в плазму, температура которой превышает температуру поверхности Солнца [5:51].
*   Именно эта плазма генерирует фотоны EUV-диапазона [5:51].

Полученный свет улавливается зеркалом-коллектором от немецкой компании Zeiss и направляется в сканер [5:51]. Поскольку обычные зеркала поглощают ультрафиолет, специалисты Zeiss создали уникальные многослойные отражатели — самые плоские искусственные поверхности в истории человечества [6:05]. Точность позиционирования всей системы феноменальна. По оценке специалистов TSMC, наведение луча в такой машине эквивалентно попаданию лазерным указателем с Луны в монету на Земле [6:19].

## 📈 Экономика нанометров: почему High NA стоит $400 млн
[[JUMP:6:32]]

Несмотря на уникальность технологии, в количественном выражении EUV-машины составляли менее 8% от общего числа систем, проданных ASML в 2024 году (44 установки EUV против 374 более дешевых DUV-систем) [6:32]. Тем не менее, при стоимости в 220 миллионов долларов за стандартный EUV-аппарат, эти системы принесли 38% всей выручки компании от продаж оборудования [6:47]. Разработка новой версии High NA стоимостью 400 миллионов долларов началась в 2016 году [7:27].

Главное новшество High NA заключается в увеличении апертуры линзы, что позволяет собирать свет под более крутыми углами [7:41]. Предыдущие литографы требовали проведения нескольких циклов экспонирования через разные маски (мультипаттернинг) для создания одного сложного слоя, что снижало процент выхода годных чипов и усложняло процесс [8:07]. Машина High NA способна напечатать нанометровый рисунок за один проход, экономя время и снижая издержки клиентов [8:07]. Однако увеличение оптической силы потребовало использования зеркал большего размера, что привело к пропорциональному росту габаритов и цены всей системы [8:20].

Другой серьезной проблемой остается энергопотребление. Кристоф Фуке признает, что современные литографы потребляют слишком много энергии [8:46]. 

По прогнозам специалистов, если энергоэффективность чипов искусственного интеллекта кардинально не улучшится, к 2035 году обучение новых ИИ-моделей может потребовать объемов электричества, превышающих выработку всей мировой энергетики [8:46]. Тем не менее, инженерам ASML уже удалось снизить энергозатраты на экспонирование одной кремниевой пластины более чем на 60% по сравнению с первыми версиями EUV-машин 2018 года [8:58].

Текущая производительность машин составляет около 200 пластин в час при непрерывной работе 24/7/365 [9:14]. Представители Intel в феврале сообщили, что уже обработали на системах High NA около 30 000 тестовых пластин, отметив двукратное превосходство в надежности оборудования по сравнению с ранними версиями [9:27]. В Samsung заявляют, что интеграция High NA способна сократить производственный цикл изготовления передовых микросхем на 60% [9:27].

## 🇨🇳 Геополитический разлом: китайский фактор и санкции
[[JUMP:10:06]]

Значительная часть чипов, используемых в автомобильной промышленности и повседневной электронике, не требует передовой литографии [10:06]. Например, для электронного блока стеклоподъемника в машине не нужны нанометровые транзисторы [10:18]. Такие компоненты успешно производятся на старых системах DUV, стоимость которых варьируется от 5 до 90 миллионов долларов [10:06]. Именно это оборудование долгое время активно закупал Китай [10:18].

Из-за экспортных ограничений США, введенных еще во время первой президентской каденции Дональда Трампа, ASML не имеет права поставлять EUV-системы в Китай [10:18]. Американская администрация стремится не допустить попадания передовых литографов и мощных ИИ-чипов в распоряжение Пекина [10:42]. 

Эксперты, опрошенные CNBC, полагают, что создание Китаем собственного аналога EUV-машины с нуля — крайне маловероятный сценарий («real long shot») [10:55]. Тем не менее, китайские инженеры научились использовать старые DUV-машины для обходных путей мультипаттернинга, успешно выпуская 7-нанометровые процессоры для потребительских смартфонов [10:55].

Китай воспользовался моментом и активно скупал доступное DUV-оборудование:

*   На пике спроса доля КНР в структуре продаж ASML достигала рекордных 49% [11:10].
*   Это произошло за счет выполнения отложенных заказов, сделанных во время дефицита в 2022 году [11:23].
*   К концу 2024 года доля китайского рынка в выручке компании снизилась до вполне стандартных 30% [11:38].

Дальнейшие перспективы остаются неопределенными на фоне возможных торговых пошлин новой администрации Трампа. Кристоф Фуке открыто признает, что пока не представляет, как именно новые тарифы повлияют на бизнес ASML [12:05]. Из-за тарифных опасений клиентов показатели объема заказов компании в первом квартале оказались ниже ожиданий аналитиков [12:18]. По мнению экспертов, руководство ASML будет лоббировать полное исключение литографического оборудования из любых тарифных списков [12:18].

## 🇺🇸 Экспансия в США и будущее на $700 миллионов
[[JUMP:12:30]]

Деятельность ASML зависит от сложнейшей глобальной цепочки поставок, включающей 800 партнеров по всему миру [12:30]. Четыре основных субмодуля High NA производятся в разных точках планеты: в Коннектикуте (США), Германии, Нидерландах и Калифорнии [12:43]. Все компоненты стекаются в Велдховен для финальной тестовой сборки, после чего их снова разбирают и отправляют клиентам [12:55]. Для перевозки одного разобранного комплекса High NA требуется задействовать 7 тяжелых грузовых самолетов Boeing 747 и от 25 до 30 грузовиков [13:17].

Исторически азиатский регион обеспечивал более 80% выручки ASML, однако сейчас доля США (составлявшая около 17% в 2024 году) стремительно растет [13:17]. Это связано со строительством новых фабрик Intel в Орегоне и Аризоне, а также запуском массового производства TSMC на заводе в Фениксе [13:17].

Штат сотрудников ASML увеличился с 32 000 человек в 2022 году до 44 000 сегодня, причем 8 500 специалистов работают на территории США [13:46]. В стране открыто 18 офисов компании, включая завод в Коннектикуте и исследовательские центры в Сан-Диего и Сан-Хосе [13:58]. 

Для поддержки американских клиентов ASML впервые открывает специализированный учебный центр в Аризоне [15:31]. До этого подобные центры существовали только в Нидерландах, на Тайване и в Южной Корее [15:45]. Новый хаб позволит ежегодно обучать до 1 200 инженеров особенностям работы с системами DUV и EUV [15:45].

Установка одной стандартной машины EUV требует колоссальных ресурсов:

*   более 2 000 электрических соединений [15:18];
*   более 2 километров кабелей [15:18];
*   около 100 000 отдельных деталей [15:18];
*   более 40 000 болтов [15:18].

Тем временем ASML уже работает над следующим поколением оборудования под названием Hyper NA, которое получит еще более широкую апертуру линзы для печати сверхмалых элементов [15:57]. В индустрии циркулируют слухи, что стоимость такой системы может достичь 700 миллионов долларов, однако Кристоф Фуке считает эти оценки завышенными, хотя и признает традиционный рост цен на новые поколения систем [15:57]. 

По оценкам главы компании, реальная коммерческая потребность клиентов в технологии Hyper NA возникнет в промежутке между 2032 и 2035 годами [16:23]. В краткосрочной перспективе компания сосредоточена на выпуске High NA: в планах на этот год значится отгрузка как минимум 5 систем с последующим расширением производственных мощностей до 20 машин в год [16:38]. 

Как резюмируют отраслевые аналитики, хотя сегодня ASML удерживает абсолютную монополию, в эпоху искусственного интеллекта могут появиться альтернативные физические методы создания полупроводников [16:50]. Поэтому компании критически важно защищать свое лидерство не только в ближайшие годы, но и в долгосрочной перспективе [16:50].